拉普拉斯（西安）科技取得反应炉专利提高待加工材料镀膜质量

　　（西安）科技有限责任公司取得一项名为“反应炉”的专利，授权公告号 CN 222182433 U，申请日期为2024年4月。

　　专利摘要显示，本公开涉及半导体或光伏材料加工技术领域，具体涉及一种反应炉，解决了传统的加工设备中，工艺进气孔较为集中，容易产生相互干扰，导致腔体内的气场分布不均匀的问题。本公开的实施例提供的一种反应炉，其进气气路之间的出气口的间距大于100mm，能够有效避免不同进气气路的出气口供应的气体相互干扰，有效提高了反应腔内气场的均匀性，有利于提高待加工材料上镀膜的质量。

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